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Walter Schwarzenbach
SOITEC
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Advanced Semiconductor on Insulator Substrates for Low Power and High Performance Digital CMOS Applications
Bich-Yen Nguyen, SOITECMariam Sadaka, SOITECNicolas Daval, SOITECWalter Schwarzenbach, SOITECCecile Aulnette, SOITECKonstantin Bourdelle, SOITECFabrice Letertre, SOITECChristophe Maleville, SOITECCarlos Mazure, SOITEC -
8a.1 Beyond Silicon CMOS: Progress and Challenges
Bich-Yen Nguyen, SOITECQweltaz GaudinMariam Sadaka, SOITECChristophe Maleville, SOITECWalter Schwarzenbach, SOITECKonstantin BoudelleChristophe Figuet -
6.1.3.2024 SmartSiC™ 150 & 200mm engineered substrate: increasing SiC power device current density up to 30%
Eric Guiot, SOITECFrédéric Allibert, SOITECJürgen Leib, Fraunhofer IISBTom Becker, Fraunhofer IISBOleg Rusch, Fraunhofer IISBAlexis Drouin, SOITECWalter Schwarzenbach, SOITEC