Yinbao Yang
Qorvo, Inc.
-
Backside Via Process of GaN Device Fabrication
Ju-Ai Ruan, Qorvo Inc.Craig Hall, QorvoCelicia Della-Morrow, TriQuint SemiconductorTom Nagle, Qorvo, Inc.Yinbao Yang, Qorvo, Inc. -
17.3 The Mechanism of Cu Seed Residue Formation
Linlin Huang, Qorvo, IncYinbao Yang, Qorvo, Inc.Xiaokang Huang, QorvoDavid Gonzalez, Qorvo, Inc.Gaurav Gupta, QorvoJohn Gibbon, QorvoLouis Breaux, QorvoDuofeng Yue, Qorvo, Inc. -
20.3 Some Process Development Issues for Ka-band GaN HEMT Individual Source Via (ISV)
Yongjie Cui, Qorvo Inc.John Hitt, Qorvo Inc.Tso-Min Chou, Qorvo Inc.Shuoqi Chen, Qorvo Inc.David Gonzalez, Qorvo, Inc.Yinbao Yang, Qorvo, Inc.Trish Smith, Qorvo Inc.Ju-Ai Ruan, Qorvo Inc.Vivian Li, Qorvo Inc.Cathy Lee, Qorvo Inc.Andrew Ketterson, Qorvo Inc. -
6a.4 Ablation Laser Dicing for GaN HEMT Device on 100um SiC/Au Substrates
Vivian Li, Qorvo Inc.Wade Skelton, Qorvo Inc.Yinbao Yang, Qorvo, Inc.Andrew Ketterson, Qorvo Inc.Michael Lube, QorvoHarold Isom, QorvoCathy Lee, Qorvo Inc.Rob Kraft, Qorvo Inc.